सिलिकॉन सामग्री वर्गीकरण: आप कितना जानते हैं

1। सिलिकॉन सामग्री का बुनियादी वर्गीकरण: पवित्रता से फॉर्म तक
सिलिकॉन सामग्री अर्धचालक और फोटोवोल्टिक उद्योगों के मुख्य कच्चे माल हैं। उनका वर्गीकरण मुख्य रूप से शुद्धता और भौतिक रूप पर आधारित है:

1। पवित्रता द्वारा वर्गीकरण

- मेटालर्जिकल ग्रेड सिलिकॉन (mg - si): शुद्धता 98%-99%, मुख्य रूप से कम लागत (लगभग 15,000-20,000 युआन/टन) के साथ, एल्यूमीनियम मिश्र धातुओं और सिलिकोन जैसे औद्योगिक क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है।

- सौर ग्रेड सिलिकॉन (SOG - Si): शुद्धता 99.9999% (6N), फोटोवोल्टिक बाजार में प्रमुख, 2023 में वैश्विक उत्पादन 1 मिलियन टन (चीन नॉनफ्रस मेटल्स इंडस्ट्री एसोसिएशन से डेटा) से अधिक हो गया।

- इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड सिलिकॉन (जैसे - si): 99.99999999% (11n) की शुद्धता, चिप निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है, कीमत 3-5 मिलियन युआन/टन के रूप में उच्च, कुल सिलिकॉन सामग्री उत्पादन क्षमता का केवल 0.5% के लिए लेखांकन।

2। आकृति विज्ञान द्वारा वर्गीकरण

- पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन: अनियमित अनाज से बना, कम लागत लेकिन थोड़ा कम रूपांतरण दक्षता (17%-19%), 2023 में 76%फोटोवोल्टिक सिलिकॉन सामग्री के लिए लेखांकन (पीवी पत्रिका डेटा)।

- मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन: यूनिफ़ॉर्म जाली संरचना, 22%से अधिक दक्षता, लेकिन इसके लिए जटिल क्रिस्टल खींचने की प्रक्रिया की आवश्यकता होती है, और कीमत पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन की तुलना में 10%-15%अधिक है।

2। उद्योग अनुप्रयोग और प्रौद्योगिकी रुझान

1। फोटोवोल्टिक उद्योग: सौर - ग्रेड सिलिकॉन का प्रभुत्व

चीन दुनिया का सबसे बड़ा उत्पादक है, जिसमें 2023 (सीपीआईए सांख्यिकी) में 80% से अधिक के लिए पॉलीसिलिकॉन उत्पादन क्षमता का हिसाब है। उच्च - दक्षता बैटरी प्रौद्योगिकियां जैसे कि टॉपकॉन और HJT मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन की मांग को बढ़ाते हैं, और यह उम्मीद की जाती है कि मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन की बाजार हिस्सेदारी 2025 में 60% से अधिक होगी।

2। सेमीकंडक्टर उद्योग: इलेक्ट्रॉनिक - ग्रेड सिलिकॉन के लिए सटीक आवश्यकताएँ

12 - इंच वेफर्स को इलेक्ट्रॉनिक-ग्रेड सिलिकॉन दोष घनत्व की आवश्यकता होती है<0.1/cm², and currently only a few companies such as Shin-Etsu Chemical and GlobalWafers can mass produce.

Iii। उभरते वर्गीकरण और चुनौतियां
1। दानेदार सिलिकॉन: एक नई द्रवित बेड विधि द्वारा निर्मित, कार्बन फुटप्रिंट को 70%तक कम कर दिया जाता है, लेकिन शुद्धता स्थिरता में सुधार करने की आवश्यकता है (वर्तमान में मुख्य रूप से पॉलीसिलिकॉन डोपिंग के लिए उपयोग किया जाता है)।

2। पुनर्नवीनीकरण सिलिकॉन सामग्री: फोटोवोल्टिक मॉड्यूल को पुनर्चक्रित करने के बाद, यह 6N के लिए शुद्ध किया जाता है, और लागत वर्जिन सामग्री की तुलना में 30% कम है, लेकिन स्केल तकनीक अभी तक परिपक्व नहीं है।